模拟英语
B.流程开发工具
B.流程开发工具
光刻建模也被证明是一个非常有价值的工具
用于开发新的光刻工艺或设备。
光刻原理已经被证明是光刻模型的加工和装备的无价工具(建模这个词是关键，其他部分楼主自己想好怎么翻译，再选择一个更好的词。我就暂时用这个，然后打上问号，你想改就改，不想改就说型号其实不错)。
一些更常见的用途包括
一些更有用的用途包括
染料的优化
最佳染色
光致抗蚀剂的负载
加载光刻胶，(不知道这个数字怎么翻译，楼主自己可以)
衬底反射率的模拟，
模拟(模拟)光敏底层的反射率
适用性
适应性
以及顶部和底部抗反射涂层的优化
,
以及优化顶部和底部抗反射涂层材料。
以及带宽对摇摆曲线幅度的影响的模拟。
并模拟(模拟)曲线的振幅带宽。
此外，模拟已经用于帮助理解厚抗蚀剂在薄膜磁头制造中的应用
型号(？)在光刻胶材料中广泛使用，用于质量控制目的，以测试新的理论(或公式，我不知道你专业地使用哪个词)
并确定用于质量控制目的的光致抗蚀剂性能的适当测量[34]。
以及测量光致抗蚀剂材料特性。(最后一句移到前面)
Resist用户经常使用建模作为新resist评估的辅助手段。
电阻经常应用模型(？)作为新抗性评估的辅助。
在曝光工具侧，
在曝光工具方面，
建模已经成为优化步进机的数值孔径和部分相干性[35-37]以及理解密集线和孤立线之间的印刷偏差[38]不可或缺的一部分。
型号(？)已经成为优化数码光圈、台阶泛音布局、理解印刷线条疏密不可或缺的一部分。
光学邻近校正软件的使用需要关于如何执行校正的规则，
光学邻近校正软件的应用需要满足校正规则。自己看英语。
这通常是在光刻模拟的帮助下产生的[39]。
这种校正经常发生在帮助光刻的模拟中。
作为一种开发工具，光刻模拟由于其速度和成本效益而表现出色。
作为一种开发工具，普通打印模式的优势在于它的速度和输入输出。
工艺开发通常包括进行大量实验来确定最佳工艺条件，
工艺开发通常涉及连续不断的实验，以确定最合适的工艺条件。
解决可能出现的问题，
发现可能的问题
确定对变量的敏感性，
衡量变量的启发。
并将规格限制写在
过程的输入和输出。
以及编写处理过程中输入和输出的规范定义
这些活动往往既费时又费钱。
这些行为(那些测量这个和那个的实验)耗费了大量的时间和金钱。
建模提供了一种用模拟实验补充实验室实验的方法来加速这一过程
降低成本。
该模型为实验室模拟实验提供了补充，可以加快实验速度，降低实验费用。
考虑到在晶片制造设备中的单次实验运行可能需要几个小时到几天，
想象一下，单个用于实验目的的粘接密封工具就需要几个小时甚至几天的时间。
模拟的速度优势是相当大的。
需要考虑模拟的速度优势。
这允许比在工厂中实际(或甚至可能)更多的模拟。(什么是fab？出现在这里很俗！应该是lab不能在论文中出现不同意思的俚语吧？)
这使得实验室中更大数量的= = =模拟是允许的(甚至是可能的)(意味着一个是实验性的，更有可能是实用的)。