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7.1简介

气相沉积膜冷凝在所谓的物理学中是常见的。

气相沉积(PVD方法)。PVD方法是通过三个主要步骤:生成

在气相中蒸发或升华的物质正在减少大气；

将材料从源输送到衬底；并形成薄膜。

核与扩散。PVD方法的例子包括电子束蒸发，

分子束外延，热蒸发，溅射，阴极电弧等离子体沉积，

和脉冲激光沉积。这些沉积技术已经广泛应用于

各种电子材料的涂层，如绝缘体、半导体、导体，

和超导性。这些技术最近被用于存储纳米粒子。